美埃科技今日在互动平台表示，公司为开发国内首台28纳米光刻设备的上海微电子所需的光刻机机台内国际最高洁净等级标准（ISO Class 1级）洁净环境提供EFU（超薄型设备端自带风机过滤机组）及ULPA（超高效过滤器）等产品，助力国内光刻机事业突破卡脖子技术 ...