为解决传统PZT压电薄膜性能瓶颈问题，研究人员通过射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)在铂硅基底上生长PMN-PT薄膜，系统研究了沉积温度、氧分压等参数对薄膜相纯度和性能的影响。结果表明，优化条件可获得无焦绿石相的纯钙钛矿结构，其铁电性能(Ps=57.84 μC/cm2 ...
本文通过射频磁控溅射（rf magnetron sputtering）在聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）基底上交替沉积CuOy和SnOx双层膜，首次系统研究了 ...
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