半导体清洗工艺分为湿法清洗和干法清洗。半导体湿法清洗设备是芯片制造中用于去除晶圆表面污染物的核心装备。湿法清洗采用特定的化学液体，主要包括溶液浸泡法、机械刷洗法、超声波清洗法等。目前主流的湿法清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗 ...